HVA 高真空閘閥應用于 E-Beam 鍍膜機

因產品配置不同，價格貨期需要電議，圖片僅供參考，一切以實際成交合同為準。
hva 高真空閘閥應用于 e-beam 鍍膜機
e-beam 電子束蒸發鍍膜機用于在半導體, 光學, **導材料等行業的研究與生產, 比如基片蒸發沉積金屬, 導電薄膜, 半導體薄膜, 鐵電薄膜, 光學薄膜和介質材料.
e-beam 鍍膜機設備組成:系統主要由蒸發室, 電子, 進樣室 (可選) , 旋轉基片加熱臺, 工作氣路, 抽氣系統, 真空測量, 電控系統及安裝機臺等部分組成.
基片在做實驗**般需要做鍍前預處理, 鍍前預處理的目的是為了得到干凈新鮮的金屬表面, 為后獲得高質量鍍層作準備, 要進行脫脂, 去銹蝕, 去灰塵等工作, 也有客戶在 loadlock 腔進行射頻反應清洗, 通過使用上海伯東 kri 離子源將基片的表層打掉, 得到光滑和均勻的表面.
hva 高真空閘閥應用
科研用鍍膜機的基片尺寸在 4”和6”大小, 本底真空度要求達到 5*10-7mbar或 5*10-8mbar, 通過使用高真空閥門對 loadlock 與主腔間進行真空隔離, 一方面不會污染基片, 另一方面也使主腔好的維持真空, 對于多腔室聯用的系統, 同腔室的隔離為關鍵, 而且要保證閥門的足夠密封, 穩定可靠才行.上海伯東是美國 hva 真空閥門中國總代理.
上圖為美國hva 真空閘閥應用于某品牌 sputtering + e-beam pvd 聯用系統, 閥門安裝在分子泵口便于泵的檢修,同時外系統停機時不破壞系統真空, 只要對泵內部進行破真空即可.
上海伯東美國hva高真空閘閥11000系列產品
尺寸范圍: 0.625”-24”id ( dn 16mm-dn 600mm)
接口類型: cf(英制) / ansi / kf / iso-f / cf(公制 )/ jis / iso-k多種接口可選
對于氣動規格, 電磁閥可選: 24vdc, 120vac, 220vac, 24vac
若您需要進一步的了解詳細信息或討論, 請聯絡上海伯東鄧女士，分機134
伯東企業（上海）有限公司專注于pfeiffer,氦質譜檢漏儀,intest等