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光刻膠的參數介紹
1．對比度（co*ast）
對比度指光刻膠從*區到非*區過渡的陡度。 對比度越好，越容易形成側壁陡直的圖形和較高的寬高比。
2．粘滯性/黏度 （viscosity）
衡量光刻膠流動特性的參數。黏度通常可以使用光刻膠中聚合物的固體含量來控制。同一種光刻膠根據濃度不同可以有不同的黏度，而不同的黏度決定了該膠的不同的涂膠厚度。
3．*蝕性（anti-etching）
光刻膠必須保持它的粘附性，在后續的刻蝕工序中保護襯底表面。耐熱穩定性、*刻蝕能力和*離子轟擊能力。
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硅片模具加工如何選擇光刻膠呢？
注意事項：
①若腐蝕液為堿性，則不宜用正性光刻膠；
②看光刻機型式，若是投影方式，用常規負膠時氮氣環境可能會有些問題
③負性膠價格成本低，光刻膠公司，正性膠較貴；
④工藝方面：負性膠能很好地獲得單根線，而正性膠可獲得孤立的洞和槽；
⑤健康方面：負性膠為有機溶液處理，不利于環境；正性膠屬于水溶液，光刻膠供應商，對健康、環境無害。
以上內容由賽米萊德為您提供，希望對同行業的朋友有所幫助！
光刻膠相關信息
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光刻膠是印刷線路板、顯示面板、集成電路等電子元器件的上游。光刻膠產業鏈覆蓋范圍非常廣，上游為基礎化工材料行業、精細*行業，中游為光刻膠制備，光刻膠廠家，下游為電子加工廠商、各電子器產品應用終端。由于上游產品直接影響下游企業的產品質量，下業企業對公司產品的質量和供貨能力十分重視，常采用認證采購的模式，進入壁壘較高。
在下游半導體、lcd、pcb等行業需求持續擴大的拉動下，光刻膠，光刻膠市場將持續擴大。2018年光刻膠市場規模為85億美元，2014-2018年復合增速約5%。據ihs，未來光刻膠復合增速有望維持5%。按照下游應用來看，目前半導體光刻膠占比24.1%，lcd 光刻膠占比26.6%，pcb 光刻膠占比24.5%，其他類光刻膠占比24.8%。
光刻膠公司-光刻膠-北京賽米萊德(查看)由 北京賽米萊德貿易有限公司提供。 北京賽米萊德貿易有限公司為客戶提供“光刻膠”等業務，公司擁有“賽米萊德”等品牌，專注于工業制品等行業。，在北京市北京經濟技術開發區博興九路2號院5號樓2層208的名聲不錯。歡迎來電垂詢，聯系人：況經理。