金屬化學(xué)氣相沉積-化學(xué)氣相沉積-拉奇納米

普通的電鍍、電泳處理的后的產(chǎn)品的耐鹽霧時(shí)間僅能達(dá)到70-100小時(shí)。而采用parylene可以達(dá)到300-500小時(shí)。其耐腐蝕時(shí)間是前者的4-5倍。磁性材料（絕緣、防銹、防線傷、填補(bǔ)穩(wěn)定特性制作） 鑄造部件 經(jīng)parylene處理的表面不會(huì)有微粒產(chǎn)生，同時(shí)可以增強(qiáng)工作的可靠性，金屬化學(xué)氣相沉積，并且可防止污染。
parylene在精密電子儀器設(shè)備pcba，fpc，多功能化學(xué)氣相沉積，ｓｍｄ上的應(yīng)用
parylene涂層是在室溫下在元件上自發(fā)形成的，不需要經(jīng)升溫固化過程，不需要對基材施加室溫以上的溫度和更多的時(shí)間來讓膜生長。parylene有高的機(jī)械強(qiáng)度和低的摩擦系數(shù)，化學(xué)氣相沉積，這二者的結(jié)合使parylene成為對小型繞線傷害元件絕緣層。parylene是這些*組裝方式的防護(hù)材料。parylene活性分子的良好穿透力能在元件內(nèi)部，化學(xué)氣相沉積加工，底部和周圍形成無氣隙的防護(hù)層。
放電產(chǎn)生的正離子在電場作用下飛向陰*，與靶表面原子碰撞，受碰撞從靶面逸出的靶原子稱為濺射原子，其能量在1至幾十電子伏范圍。濺射原子在基片表面沉積成膜。與蒸發(fā)鍍膜不同，濺射鍍膜不受膜材熔點(diǎn)的限制，可濺射w、ta、c、mo、wc、tic等難熔物質(zhì)。濺射化合物膜可用反應(yīng)濺射法，即將反應(yīng)氣體 (o、n、hs、ch等)加入ar氣中，反應(yīng)氣體及其離子與靶原子或?yàn)R射原子發(fā)生反應(yīng)生成化合物（如氧化物、氮化物等）而沉積在基片上。沉積絕緣膜可采用高頻濺射法。
用parylenec涂敷的鋼板，在–160℃的液氮中冷卻，在gardner落體試驗(yàn)中可以承受超過100in-lb的沖擊。相比之下，室溫下為250in-lb。無支持的0.002英寸的parylenec薄膜在–165℃下可以彎折180°6次才失效。相比膠而言，聚乙烯、聚氨酯和聚*分別為3次、2次和1次。從2°（–271℃）到室溫環(huán)境的過程對電氣和物理性能都沒有影響。對于parylenec的厚度從0.002英寸到0.0001英寸的測試效果如表2.很故意思的是，即使對于特別很是薄的涂層（0.0001英寸），絕緣阻*值也比規(guī)定的規(guī)格高出一個(gè)數(shù)量級(jí)。
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